AiF-Projekte

Atmosphärendruck-Plasma-Applikationen

Eine optimale Precursoraktivierung ist eine wesentliche Voraussetzung für die effiziente Ausnutzung der zugeführten Prozessgase. Hinsichtlich der optimalen Vermischung von Plasma- und Precursorgas stellen die Projektpartner ihre Erkenntnisse (soweit relevant nutzbar) den anderen Partnern zur Verfügung, wodurch Synergieeffekte für eine verbesserte Gasführung und -ausnutzung erwartet werden. Durch die Zusammenarbeit sollen erstmalig konvektiv und elektrisch gekoppelte Plasmasimulationsrechnungen vorangetrieben werden. Damit eröffnen sich Möglichkeiten zur Plasmaquellenoptimierung hinsichtlich der Plasmagaszufuhr, was wiederum Ansätze zur Reduktion des Gasverbrauchs liefert.

Weiterhin sollen ein Informationsaustausch und ein Datenabgleich bzgl. der Wechselwirkungen des Plasmas mit den Precursorgasen und den Schichtbildungsmechanismen der interessierten Projektpartner stattfinden. Unabhängig vom Plasmaquellentyp werden dadurch wesentliche Erkenntnisse für die Optimierung der Plasmaquellen hinsichtlich einer minimalen Plasmadeaktivierung bzw. einer optimalen Precursorgaszugabe zum Erreichen hoher Abscheideraten generiert.

Folgende Anwendungen werden durch die vier Teilprojekte adressiert:

  • Abscheidung Si-basierter Schichten als Antihaft-, Barriere- und Schutzschichten,
  • Abscheidung von funktionellen Schichten für medizinische und biologische Anwendungen,
  • großflächiges, plasmachemisches Ätzen und Beschichten von Silizium für die Photovoltaik.